Besser ätzen dank Industriekooperation
Erfolgreiches Entwicklungsprojekt mit SENTECH Instruments. Neue Perspektiven für Galliumnitrid-Mikrowellenbauelemente am FBH.
Das Ferdinand-Braun-Institut für Höchstfrequenztechnik (FBH) hat dazu beigetragen, dass die Adlershofer Firma SENTECH eine neue Plasmaquelle für ein Ätzgerät entwickeln konnte. Der ICP-Ätzer SI 500 mit der patentierten Plasmaquelle wird bereits am FBH eingesetzt. "Mit diesem Gerät werden international Maßstäbe gesetzt und wir erschließen damit neue Anwendungspotenziale", erläutert Dr. Joachim Würfl, Leiter der Abteilung Prozesstechnologie am FBH, die Bedeutung der neuen technologischen Möglichkeit. "Jetzt können wir nicht nur die Performance und Leistungsdichte unserer Chips weiter steigern, sondern sind weltweit eine der Wenigen, die die Voraussetzungen für den kompletten Fertigungsprozess für Galliumnitrid-basierte Halbleiter-Mikrowellenbauelemente bieten", blickt Würfl optimistisch in die Zukunft.
Die neue Maschine ermöglicht es dem Leibniz-Institut, wirtschaftlich relevante Mikro- bzw. Nanostrukturierung an extrem inerten und harten Materialien wie Siliziumkarbid (SiC), dem Substratmaterial für Galliumnitrid (GaN)-Bauelemente vorzunehmen. Das Berliner Institut setzt die Anlage im Forschungsbetrieb für Hochrate-Ätzprozesse ein und verfügt nun über eine weitere vielseitige Strukturierungstechnologie. Dieser Ausbau der Leistungskapazitäten erlaubt es, die theoretisch möglichen Absolutleistungen und Leistungsdichten von neuartigen Mikrowellen-Leistungsbauelementen auf GaN- und SiC-Basis praktisch umzusetzen und zu demonstrieren.
Kooperationserfolg von Forschung und Wirtschaft stärkt Marktposition
Die jetzt gelieferte Hochrate-Plasmaätzanlage ist das jüngste Ergebnis einer mehrjährigen, von der Investitionsbank Berlin geförderten Kooperation zwischen dem FBH und SENTECH. Zielsetzung des gemeinsamen Projekts war es, in kurzer Zeit eine hocheffiziente, homogene Plasmaquelle optimal an die technologischen Anforderungen des FBH anzupassen. Diese sollte insbesondere die Erfordernisse eines modernen Halbleiterprozesses berücksichtigen - unter anderem bei der Realisierung von Mikrowellen-Leistungstransistoren auf GaAs- und SiC-Basis. Das FBH hat das Projekt von Forschungs- und Anwenderseite begleitet und war für die Anpassung der Prozesse an die Anforderungen der GaAs- und SiC-Technologie zuständig. Die hier gewonnen Erkenntnisse flossen direkt in die technologische Entwicklung bei SENTECH ein und bilden die Grundlage für zukünftige Innovationen auf dem Gebiet der GaN-Technologie. "Durch die Synergieeffekte mit dem FBH ist uns in Deutschland die Entwicklung einer State-of-the-Art-Technologie bei modernsten Plasmaätzverfahren gelungen", freut sich Dr. Albrecht Krüger, Geschäftsführer von SENTECH Instruments, "damit können wir neue Märkte erschließen und uns an attraktiven internationalen Ausschreibungen erfolgreich beteiligen."
Weitere Informationen:
Dr. Joachim Würfl
Abteilungsleiter Prozesstechnologie
Ferdinand-Braun-Institut für Höchstfrequenztechnik
Albert-Einstein-Straße 11
12489 Berlin
Tel. 030.6392-2690
Fax 030.6392-2685
E-Mail wuerfl@fbh-berlin.de
Über das FBH
Das Ferdinand-Braun-Institut für Höchstfrequenztechnik (FBH) ist eines der weltweit führenden Institute für anwendungsorientierte und industrienahe Forschung in der Mikrowellentechnik und Optoelektronik. Auf der Basis von III/V-Verbindungshalbleitern realisiert es Hochfrequenz-Bauelemente und Schaltungen für Anwendungen in der Kommunikationstechnik und Sensorik sowie hochbrilliante Diodenlaser für die Materialbearbeitung, Lasertechnologie, Medizintechnik und Präzisionsmesstechnik. Die enge Zusammenarbeit des FBH mit Industriepartnern und Forschungseinrichtungen garantiert die schnelle Umsetzung der Ergebnisse in praktische Anwendungen. Das Institut beschäftigt mehr als 140 Mitarbeiter und hat einen Etat von über 13 Millionen Euro. Es gehört zum Forschungsverbund Berlin e.V. (FVB) und ist, wie alle FVB-Institute, Mitglied der Leibniz-Gemeinschaft.
Über SENTECH
SENTECH Instruments entwickelt und fertigt Geräte für die Dünnschichtmesstechnik zur Bestimmung von Schichtdicke und optischen Konstanten der Schichten (Reflektometer und Ellipsometer) sowie für die Plasma Prozesstechnologie zur Strukturierung und Abscheidung von Schichten (RIE und ICP Plasmaätzer und PECVD Beschichtungsanlagen). Diese Geräte werden insbesondere in der Forschung und Entwicklung der Mikro- und Optoelektronik, der optischen Industrie, der Glasindustrie sowie an Universitäten und Forschungsinstituten eingesetzt. SENTECH Instruments verkauft seine Produkte weltweit. Ein ausgedehntes Händlernetz sichert die qualitativ hochwertige Beratung und Betreuung der Kunden vor Ort.
Weitere Informationen:
http://www.fbh-berlin.de
http://www.sentech.de